昭和電工（東京都港区）は26日、半導体製造工程で使用される高純度臭化水素（HBr）の生産設備増強工事を完了し、今月より生産を開始したと発表した。

　高純度HBrはDRAMやNAND型フラッシュメモリ等の半導体製造工程で、ポリシリコンの微細加工（エッチング）に使用される特殊ガス。IoT、ビッグデータ、自動運転といったデジタライゼーションの加速化で半導体市場はさらに拡大し、それに合わせ高純度HBrの需要も拡大している。

　同社は、川崎事業所で年産600トンの合成・精製生産設備を有しているが、高稼働が続いていることから、今回、年産能力を1.5倍の900トンに増強した。