産業ガスメーカーの大陽日酸（東京都品川区）は6月29日、アジア地区でのエレクトロニクスガス需要の増加に対応する為、中国に新工場の建設を決定し、6月28日に鍬入れ式を行ったと発表した。

　中国では2014年に制定された「国家IC産業発展推進ガイドライン」と中国共産党の「第13次5カ年計画2016～2020年」で半導体産業の育成や国産化が推進されており、電子材料ガスなど関連材料需要の大幅な伸びが期待されている。

　生産能力を増強するB2H6、CH3FおよびC4F6はメモリーやロジックにドーピング、エッチング用途で用いられており、今後は特に3D-NANDプロセスの多層化に伴う需要の拡大が見込まれている。

　新工場は敷地面積28,000㎡。生産工場・倉庫・事務所を含めた建屋総面積は7,000㎡。設備はB2H6の合成充填、CH3F、C4F6の精製充填、SiH4等の混合ガス充填・容器整備機能を設置。2019年1月の商業生産開始を予定している。