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住友化学、大阪工場に半導体用フォトレジスト新棟建設

2026年4月13日

住友化学は4月9日、大阪工場(大阪市)に先端半導体用フォトレジストの技術棟を建設すると発表した。

 生成AIの普及やデータセンター投資の拡大を背景に、先端ロジック・メモリー向けで高性能・高品質と安定供給の要求が高まっている。2022年に大阪工場で開発・評価新棟を建設し露光機導入を進めてきたが、開発成果を供給に結びつけるには製造ラインのプロセス管理高度化が必要となっていた。

 新棟はEUV(極端紫外線)レジストやArF(フッ化アルゴン)レジストを対象に、工場内に分散していた製造プロセス技術、品質評価、分析機能を集約する。原料の先行評価から出荷までの工程管理を高精度化し、量産立ち上げの迅速化と品質の安定化を進める。

 大阪工場で開発から量産化、分析までを一気通貫で担う体制を拡充し、グローバルな供給安定性を高める。半導体材料事業を成長ドライバーと位置づけ、フォトレジスト事業への投資を継続する。

■ 新棟概要

所在地:大阪市此花区春日出中3丁目1番98号
延床面積:約3,200m²
規模:地上6階建
完成予定:2027年度末

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