ADEKAは10月31日、鹿島化学品工場に次世代EUVリソグラフィ（高NA EUV）向けMOR用金属化合物の新プラントを建設すると発表した。

　高度ICT社会の進展により半導体の高集積化と高性能化が進むなか、EUV露光技術の進化に対応するため、新しいタイプのフォトレジストであるMOR（金属酸化物レジスト）向け材料の需要拡大を見込み、専用プラントを新設する。

　MOR用金属化合物はEUV吸収率やエッチング耐性を向上させるキーマテリアルで、同社のALD材料技術を応用して製品化された。既に鹿島化学品工場内で量産と供給を開始しており、今回の新設により高NA EUV露光の本格導入を見据えた量産体制を整備する。

　新プラントには将来的な増産スペースを確保し、需要拡大への対応とともに、次世代リソグラフィ工程に向けた新規材料の製造も検討する。また、2026年1月には埼玉県久喜市の久喜開発研究所内に新研究棟が完成予定で、ALD材料、CAR、MOR向け材料の開発体制をさらに強化する。

　今回の設備投資を通じて、先端半導体リソグラフィ工程の技術革新を素材面から支え、次世代MOR用材料の供給とともに、先端CAR向け材料分野で世界トップシェアを目指す。