ＪＸ金属は3月10日、茨城県のひたちなか新工場で半導体用スパッタリングターゲットの増産に向けた設備投資を行うと発表した。

　同社は2022年にひたちなか市で大規模用地を取得し、先端材料の中核拠点として新工場の建設を進めている。2023年7月にはリサイクル物流センターが先行稼働しており、2026年3月末に半導体用スパッタリングターゲットの一部設備の試運転を開始し、開業を迎える予定。

　AIデータセンター向けを中心に、先端ロジック半導体や先端メモリ半導体（HBM等）の需要が拡大しており、同社の半導体用スパッタリングターゲットの需要が急増すると見込んでいる。このため、ひたちなか薄膜材料工場内で同ターゲットの製造設備一式を増強し、生産能力を2023年度比1.6倍とする。

　投資額は約230億円で、2027年度下期より順次稼働を開始する。既存の中核拠点である磯原工場の技術・ノウハウを活用して効率的な生産ラインを構築する。